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目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSZ254-II-DC-SS桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀

桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀

  • 桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀
  • 桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀
  • 桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀
參考價 120000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準
120000
≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 CY-MSZ254-II-DC-SS
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 鄭州市
屬性

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>

更新時間:2025-09-06 08:44:14瀏覽次數(shù):194評價

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產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 5萬-10萬
應用領域 能源,電子/電池,鋼鐵/金屬,汽車及零部件,電氣 真空腔體 直徑≦100mm的平面樣品均可
樣品臺尺寸 直徑≦100mm的平面樣品均可 磁控靶 普通永磁靶,可調(diào)角度
靶材尺寸 直徑2英寸,厚度≦3mm, 濺射功率 濺射功率
桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備

本設備為雙靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備。

本套配置采用高真空不銹鋼腔體,腔體設置帶擋板的石英觀察窗,便于實驗的觀察記錄;腔體設計真空性能優(yōu)良,造型小巧,十分適合實驗室使用。同時設備配有旋轉加熱樣品臺,可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機采用模塊化設計,操作邏輯簡單,操作界面直觀,利于上手。

技術參數(shù):

產(chǎn)品名稱

桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控濺射鍍膜儀

產(chǎn)品型號

CY-MSZ254-II-DC-SS

樣品臺

外形尺寸

φ100mm

可調(diào)轉速

≦20rpm

磁控靶槍

配兩支兩英寸磁控靶,靶材尺寸:直徑50.8mm,厚度≦3mm

真空腔體

腔體尺寸

φ254mm X 300mm

觀察窗口

前置式

腔體材料

304不銹鋼

開啟方式

上蓋開啟及前開門

真空系統(tǒng)

前級泵

低噪音雙極旋片泵

分子泵

低噪音大抽速渦輪分子泵(選配)

真空測量

復合真空計,量程:10-5~105Pa

抽氣接口

KF16

排氣接口

KF16

系統(tǒng)真空

1.0×10-4Pa

供電電源

AC 220V 50/60Hz

抽氣速率

前級泵抽速1.1L/s 

電源配置

電源數(shù)量

直流電源一套

輸出功率

直流電源500W

其他參數(shù)

供電電壓

AC220V,50Hz

整機功率

2kW

整機尺寸

550mm X 350mm X450mm

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