目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSZ180-I-DC-Q下置四靶磁控濺射鍍膜儀
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 1-5萬 |
|---|---|---|---|
| 應用領(lǐng)域 | 地礦,能源,建材/家具,電子/電池,鋼鐵/金屬 |
簡單介紹：
四靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜。
詳情介紹：
我公司研發(fā)的配有兩個靶位的實驗室專用鍍膜儀，設(shè)備配有兩臺直流電源，兩臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜等。
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長時間穩(wěn)定工作。
下置四靶磁控濺射鍍膜儀采用靶下置布局，樣品臺在上方，與靶面高度可通過程序**可調(diào)，并且可旋轉(zhuǎn)加熱，性能優(yōu)異。
產(chǎn)品名稱 | 下置四靶磁控濺射鍍膜儀 | |
產(chǎn)品型號 | CY-MSH500X-Ⅳ-DCDCRFRF-SS | |
供電電壓 | AC220V，50Hz | |
整機功率 | 6KW | |
極限真空度 | 5x10-4Pa | |
樣品臺 | 尺寸 | 150mm |
高度 | 上下70mm**可調(diào) | |
加熱溫度 | ≤850℃ | |
轉(zhuǎn)速 | 1-20rpm | |
磁控濺射頭參數(shù) | 數(shù)量 | 4個2"磁控濺射頭 |
冷卻方式 | 水冷，所需流速10L/min | |
水冷機規(guī)格 | 10L/min流速的循環(huán)水冷機 | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | φ500mm X550mm H |
腔體材料 | 不銹鋼 | |
觀察窗口 | φ100mm | |
開啟方式 | 前開門式 | |
氣體流量控制器 | 1路質(zhì)量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM Ar； | |
真空泵 | 配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速1200L/S | |
膜厚儀 | 石英振動薄膜測厚儀一臺，分辨率0.10 ? | |
濺射電源 | 直流電源2臺，500W，適用于制備金屬膜 射頻電源2臺，500W，適用于非金屬鍍膜 | |
操作方式 | CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng) | |
整機尺寸 | 1250mm X 1000mm X2000mm | |
整機重量 | 500kg | |
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