目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSZ180-I-DC-Q桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 1-5萬 | 
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 | 
本設備為桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備。
本套配置采用石英真空腔體,鍍膜過程全向可視,便于實驗的觀察記錄,腔體設計開啟方便,易于清理,十分適合實驗室使用。同時設備配有旋轉加熱樣品臺,可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量。整機采用模塊化設計,操作邏輯簡單,操作界面直觀,利于上手。
磁控鍍膜儀典型應用:
• 科研領域:納米材料、薄膜器件、光學涂層等研究。
• 電子行業(yè):半導體、傳感器、導電薄膜制備。
• 教學演示:材料科學、真空技術實驗教學。
• 以下是磁控鍍膜儀的典型實用案例,涵蓋科研、工業(yè)及教學領域,體現(xiàn)其多功能性和廣泛應用價值:
 
  
| 產(chǎn)品名稱 | 桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀 | |
| 產(chǎn)品型號 | CY-MSZ180-I-DC-Q | |
| 樣品臺 | 外形尺寸 | φ100mm | 
| 加熱溫度 | ≦500℃ | |
| 可調(diào)轉速 | ≦20rpm | |
| 磁控靶槍 | 配一支兩英寸磁控靶,靶材尺寸:直徑50.8mm,厚度≦3mm | |
| 真空腔體 | 腔體尺寸 | φ180mm X 215mm | 
| 觀察窗口 | 全向透明 | |
| 腔體材料 | 高純石英 | |
| 開啟方式 | 上蓋拆卸式 | |
| 真空系統(tǒng) | 前級泵 | 低噪音雙極旋片泵 | 
| 分子泵 | 低噪音大抽速渦輪分子泵 | |
| 真空測量 | 復合真空計,量程:10-5~105Pa | |
| 抽氣接口 | KF16 | |
| 抽氣接口 | KF40 | |
| 排氣接口 | KF16 | |
| 系統(tǒng)真空 | 1.0×10-4Pa | |
| 供電電源 | AC 220V 50/60Hz | |
| 抽氣速率 | 分子泵抽速600L/s,前級泵抽速1.1L/s | |
| 電源配置 | 電源數(shù)量 | 直流電源一套 | 
| 輸出功率 | 300W | |
| 
 其他參數(shù) | 供電電壓 | AC220V,50Hz | 
| 整機功率 | 2kW | |
| 整機尺寸 | 550mm X 350mm X1200mm | |