目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSH325X-DCDCRF-SS三靶向上磁控濺射鍍膜儀
| 產地類別 | 國產 | 價格區(qū)間 | 10萬-30萬 | 
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 | 
三靶向上磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的高性價比磁控濺鍍設備,具有標準化、模塊化、定制化的特點。該設備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等,三種靶材可以滿足多層或多層涂層的需要。與同類設備相比,三靶磁控濺射鍍膜儀不僅應用廣泛,而且具有體積小、操作方便等優(yōu)點。它是實驗室制備材料薄膜的理想設備。
 
  
| 項目 | 明細 | |
| 產品型號 | CY-MSH325X-DCDCRF-SS | |
| 供電電壓 | AC220V,50Hz | |
| 整機功率 | 6KW | |
| 系統(tǒng)真空 | ≦5×10-4Pa | |
| 樣品臺 | 外形尺寸 | φ150mm | 
| 加熱溫度 | ≦750℃ | |
| 控溫精度 | ±1℃ | |
| 可調轉速 | ≦20rpm | |
| 磁控靶槍 | 靶材尺寸 | 直徑Φ50.8mm,厚度≦3mm | 
| 冷卻模式 | 循環(huán)水冷 | |
| 水流大小 | 不小于10L/Min | |
| 靶槍數(shù)量 | 3 | |
| 真空腔體 | 腔體尺寸 | 直徑φ325mm,高度600mm | 
| 腔體材質 | SUU304不銹鋼 | |
| 觀察窗口 | 直徑φ100mm | |
| 開啟方式 | 前面開啟 | |
| 氣體控制 | 1路質量流量計用于控制Ar流量,量程為:200SCCM | |
| 真空系統(tǒng) | 配分子泵系統(tǒng)1套,氣體抽速600L/S | |
| 膜厚測量 | 可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ? | |
| 濺射電源 | 直流電源功率500W*2,射頻電源功率300W | |
| 控制系統(tǒng) | CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng) | |
| 真空計 | 電阻規(guī)真空計 | |
| 設備尺寸 | 1090mm×900mm×1250mm | |
| 設備重量 | 350kg | |