目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSH325-III-DCDCRF-SS高真空三靶磁控濺射鍍膜儀自動控制
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 10萬-30萬 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 |
高真空三靶磁控濺射鍍膜儀自動控制是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶為2英寸，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購；所配電源為兩個500W直流電源，一個300W射頻電源，直流電源可用于金屬薄膜的制備，兩個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。
鍍膜儀具有兩路高精度質(zhì)量流量計，客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計的氣路，以滿足復雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求；儀器標配的渦輪分子泵組，極限真空可達1.0E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制，可以實現(xiàn)在不關泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機工控電腦對系統(tǒng)進行控制，在電腦程序上可以實現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能，可以進一步提高您的實驗效率。
產(chǎn)品名稱 | 三靶磁控濺射鍍膜儀自動控制 | |
產(chǎn)品型號 | CY-MSH325-III-DCDCRF-SS | |
供電電壓 | AC220V，50Hz | |
整機功率 | 6KW | |
系統(tǒng)真空 | ≦5×10-4Pa | |
樣品臺 | 外形尺寸 | φ150mm |
加熱溫度 | ≦850℃ | |
控溫精度 | ±1℃ | |
可調(diào)轉(zhuǎn)速 | ≦20rpm | |
磁控靶槍 | 靶材尺寸 | 直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm |
冷卻模式 | 循環(huán)水冷 | |
水流大小 | 不小于10L/Min | |
數(shù)量 | 3 | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | 直徑φ325mm |
腔體材質(zhì) | SUU304不銹鋼 | |
觀察窗口 | 直徑φ100mm | |
開啟方式 | 頂開式 | |
氣體控制 | 1路質(zhì)量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM | |
真空系統(tǒng) | 配分子泵系統(tǒng)1套，氣體抽速600L/S | |
膜厚測量 | 可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ? | |
濺射電源 | 配直流電源,功率500W*2 射頻電源300W | |
控制系統(tǒng) | CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng) | |
設備尺寸 | 570mm×1040mm×1700mm | |
設備重量 | 350kg | |
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