目錄:鄭州成越科學(xué)儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSH300-II-RF?DC-SS雙靶磁控濺射鍍膜儀
| 參考價(jià) | ¥ 169800 | 
| 訂貨量 | ≥1臺(tái) | 
| ¥169800 | 
| ≥1臺(tái) | 
更新時(shí)間:2025-09-07 11:51:50瀏覽次數(shù):86評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 10萬(wàn)-30萬(wàn) | 
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 | 
雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的小型實(shí)驗(yàn)室用鍍膜儀,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn),鍍膜速率高,樣品溫升低,是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層,水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量,避免熱量在靶面聚集,使磁控鍍膜能長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作。與同類設(shè)備相比,這款雙靶磁控濺射鍍膜儀不僅應(yīng)用廣泛,且體積小便于操作,是一款實(shí)驗(yàn)室制備薄膜的理想設(shè)備。
| 項(xiàng)目 | 明細(xì) | |
| 產(chǎn)品型號(hào) | CY-MSH300-II-RFDC-SS | |
| 供電電壓 | AC220V,50Hz | |
| 整機(jī)功率 | 3KW | |
| 極限真空度 | 10-6torr | |
| 載樣臺(tái)參數(shù) 
 
 
 | 尺寸 | φ140mm | 
| 加熱溫度 | *高500℃ | |
| 控溫精度 | ±1℃ | |
| 轉(zhuǎn)速 | 1-20rpm可調(diào) | |
| 磁控濺射頭參數(shù) 
 
 | 數(shù)量 | 2個(gè)2"磁控濺射頭 | 
| 冷卻方式 | 水冷,所需流速10L/min | |
| 水冷機(jī)規(guī)格 | 16L/min流速的循環(huán)水冷機(jī) | |
| 真空腔體 
 
 
 | 腔體尺寸 | φ300mm X 300mm H | 
| 腔體材料 | 不銹鋼 | |
| 觀察窗口 | φ100mm | |
| 開(kāi)啟方式 | 上頂開(kāi)式,便于更換靶材 | |
| 氣體流量控制器 | 4路分別通N2,Ar,O2,空氣;量程均為0-500sccm | |
| 真空泵 | 配有一套分子泵系統(tǒng),抽速600L/S | |
| 膜厚儀 | 石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀一臺(tái),分辨率0.10 ? | |
| 濺射電源 | 直流電源一臺(tái),500W,適用于制備金屬膜 射頻電源一臺(tái),300W,適用于非金屬鍍膜 | |
| 操作方式 | 面板按鈕操作 | |
| 整機(jī)尺寸 | 1400mm X 750mm X 1300mm | |
| 整機(jī)重量 | 300kg | |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)