目錄:鄭州成越科學(xué)儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSZ210-I I -DCDC-SS?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 10萬-30萬 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 |
桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀本設(shè)備為實驗室真空PVD鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實驗室SEM樣品制備。
以下是單靶磁控鍍膜儀的典型實用案例，涵蓋科研、工業(yè)及教學(xué)領(lǐng)域，體現(xiàn)其多功能性和廣泛應(yīng)用價值：
1. 科研領(lǐng)域——納米光學(xué)薄膜制備
應(yīng)用場景：某高校光學(xué)實驗室利用Au靶（金靶）在玻璃基片上沉積納米級金薄膜，用于表面等離子體共振（SPR）傳感器研究。優(yōu)勢：
膜厚可控（10~200nm），均勻性高（±3%），確保光學(xué)性能穩(wěn)定。
真空環(huán)境避免氧化，獲得高純度納米金膜。
2. 電子行業(yè)——透明導(dǎo)電薄膜（ITO）鍍膜
應(yīng)用場景：柔性電子企業(yè)使用ITO靶（氧化銦錫）在PET塑料基材上鍍制透明導(dǎo)電層，用于觸摸屏電極。優(yōu)勢：
低功率濺射（RF模式）避免基材熱損傷，膜層電阻≤100 Ω/sq。
桌面型設(shè)備節(jié)省空間，適合小批量試產(chǎn)。
3. 材料改性——刀具硬質(zhì)涂層（TiN）
應(yīng)用場景：機(jī)械加工實驗室在高速鋼刀具表面鍍TiN（氮化鈦）涂層，提升耐磨性。工藝要點：
通入氮氣反應(yīng)濺射，形成金黃色TiN膜，硬度達(dá)2000 HV。
基片加熱至300°C，增強膜基結(jié)合力。
桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
產(chǎn)品名稱 | 不銹鋼腔體雙靶磁控鍍膜儀 | |
產(chǎn)品型號 | CY-MSZ210-I I -DCDC-SS | |
樣品臺 | 外形尺寸 | φ100mm |
加熱溫度 | ≦500℃ | |
可調(diào)轉(zhuǎn)速 | ≦20rpm | |
磁控靶槍 | 配兩支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | φ210mm X260mm |
觀察窗口 | 全向透明 | |
腔體材料 | 304不銹鋼 | |
開啟方式 | 上蓋拆卸式 | |
真空系統(tǒng) | 前級泵 | 低噪音雙極旋片泵 |
分子泵 | 低噪音大抽速渦輪分子泵 | |
真空測量 | 復(fù)合真空計，量程:10-5~105Pa | |
抽氣接口 | KF16 | |
抽氣接口 | KF40 | |
排氣接口 | KF16 | |
系統(tǒng)真空 | 1.0×10-4Pa | |
供電電源 | AC 220V 50/60Hz | |
抽氣速率 | 分子泵抽速600L/s，前級泵抽速1.1L/s | |
電源配置 | 電源數(shù)量 | 直流電源兩套 |
輸出功率 | 500W | |
其他參數(shù) | 供電電壓 | AC220V,50Hz |
整機(jī)功率 | 4kW | |
整機(jī)尺寸 | 550mm X 350mm X900mm | |
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
1
化工儀器網(wǎng)