目錄:鄭州成越科學(xué)儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MS磁控濺射鍍膜儀
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 10萬-30萬 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 |
設(shè)備用途：
CY-MS磁控濺射鍍膜儀用于在晶體硅表面沉積金屬薄膜（Al、Ag、Ni、Cu、Ti、Pd等），并能夠?qū)崿F(xiàn)反應(yīng)濺射，可完成高、低真空下磁控濺射鍍膜工藝，具備較大尺寸和多種尺寸規(guī)格的晶體硅光伏電池薄膜的連續(xù)制備能力。
磁控鍍膜儀典型應(yīng)用：
• 科研領(lǐng)域：納米材料、薄膜器件、光學(xué)涂層等研究。
• 電子行業(yè)：半導(dǎo)體、傳感器、導(dǎo)電薄膜制備。
• 教學(xué)演示：材料科學(xué)、真空技術(shù)實驗教學(xué)。
• 以下是磁控鍍膜儀的典型實用案例，涵蓋科研、工業(yè)及教學(xué)領(lǐng)域，體現(xiàn)其多功能性和廣泛應(yīng)用價值。
技術(shù)參數(shù)：
| 型號 | CY-in-line | |
| 主濺真空室 | 方形真空室，尺寸Ø 1000×700×350mm | |
| 進樣室 | 圓筒型，臥室，尺寸Ø 250×420mm | |
| 真空系統(tǒng)配置 | 分子泵與機械泵，閘板閥 | |
| 極限壓力 | 主濺射室 | ≦8*10-5Pa（經(jīng)烘烤除氣后） |
| 進樣室 | ≦6.6*10-4Pa（經(jīng)烘烤除氣后） | |
| 恢復(fù)真空時間 | 主濺射室 | 40分鐘可達到6.6*10-4Pa（系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮氣開始抽氣） |
| 進樣室 | 40分鐘可達到6.6*10-3Pa（系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮氣開始抽氣） | |
| 磁控靶組件 | 矩形靶尺寸約450*45mm；靶與樣品距離80mm可調(diào)
| |
| 基片加熱臺 | 基片結(jié)構(gòu) | 尺寸125*125mm或156*156mm，可一次安裝4片樣品 |
| 加熱溫度 | 室溫~400Ｃ±2 C，可控可調(diào) | |
| 氣路系統(tǒng) | 質(zhì)量流量控制器3路 | |
| 設(shè)備占地面積 | 主機 | 2655 * 930mm2 |
| 電控柜 | 700 *700mm2（兩個） | |
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