目錄:鄭州成越科學(xué)儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-TRP真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)
| 參考價(jià) | ￥ 189000 |
| 訂貨量 | ≥1臺(tái) |
| ￥189000 |
| ≥1臺(tái) |
更新時(shí)間：2025-09-07 12:11:36瀏覽次數(shù)：130評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 10萬-30萬 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 |
真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)設(shè)備用途：
用于納米級(jí)單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備?？蓮V泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
磁控鍍膜儀典型應(yīng)用：
• 科研領(lǐng)域：納米材料、薄膜器件、光學(xué)涂層等研究。
• 電子行業(yè)：半導(dǎo)體、傳感器、導(dǎo)電薄膜制備。
• 教學(xué)演示：材料科學(xué)、真空技術(shù)實(shí)驗(yàn)教學(xué)。
• 以下是磁控鍍膜儀的典型實(shí)用案例，涵蓋科研、工業(yè)及教學(xué)領(lǐng)域，體現(xiàn)其多功能性和廣泛應(yīng)用價(jià)值：
真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：
真空室 | 圓筒型前開門結(jié)構(gòu)，尺寸?450×40mm | |
真空系統(tǒng)配置 | 復(fù)合分子泵、機(jī)械泵、氣動(dòng)閘板閥、進(jìn)口SMC氣缸節(jié)流閥 | |
極限壓力 | ≤6.6 *10-6 Pa。（經(jīng)烘烤除氣后） | |
恢復(fù)真空時(shí)間 | 25 分鐘可達(dá)到≤6.6×10-6 Pa。（短時(shí)間撰茲大氣并充入干燥氮?dú)夂箝_始抽氣） | |
磁控靶組件 | 永磁靶三套；靶材尺寸?60mm（其中一個(gè)可濺射磁性材料）；各靶射頻灘射和直流裁射兼容；靶內(nèi)水冷；三個(gè)靶可共同折向上面的樣品中心；靶與樣品距離 90~130mm可調(diào)；每個(gè)靶配進(jìn)口 SMC 旋轉(zhuǎn)氣動(dòng)擋板 | |
單基片加熱臺(tái) | 樣品尺寸 | ?4英寸 |
運(yùn)動(dòng)方式 | 基片可連續(xù)回轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速 0－30 轉(zhuǎn)/分 | |
加熱 | 進(jìn)口加熱絲加熱，zui高加熱溫度 600℃ ±1℃ | |
擋板形式 | 進(jìn)口 SMC 轉(zhuǎn)角氣缸控制 | |
氣路系統(tǒng) | 質(zhì) 量 流 量 控制器 2 路 | |
計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng) | 采用 PLC ＋工控機(jī)＋觸摸屏全自動(dòng)控制方式 | |
可選配件 | 膜厚儀、氣泵、水冷循環(huán)機(jī) | |
設(shè)備占地面積 | 主機(jī) | I000×1800mm2 |
電控柜 | 900×600mm2 | |
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