目錄:鄭州成越科學(xué)儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSH300- II-DCDC-SS雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流)
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 10萬-30萬 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 |
CY-MSH300- II-DCDC-SS雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流)為我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，設(shè)備可選配直流電源，和射頻電源，功率從500W-1000W不等，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn)，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長時(shí)間穩(wěn)定工作。
設(shè)備經(jīng)過緊湊化設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)了體積與性能的平衡，造型美觀功能齊全。整機(jī)均采用觸控屏控制，內(nèi)置一鍵式鍍膜程序，操作簡單易上手，是一款實(shí)驗(yàn)室制備薄膜的理想設(shè)備。
磁控鍍膜儀典型應(yīng)用：
• 科研領(lǐng)域：納米材料、薄膜器件、光學(xué)涂層等研究。
• 電子行業(yè)：半導(dǎo)體、傳感器、導(dǎo)電薄膜制備。
• 教學(xué)演示：材料科學(xué)、真空技術(shù)實(shí)驗(yàn)教學(xué)。
• 以下是磁控鍍膜儀的典型實(shí)用案例，涵蓋科研、工業(yè)及教學(xué)領(lǐng)域，體現(xiàn)其多功能性和廣泛應(yīng)用價(jià)值：
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流)技術(shù)參數(shù)：
項(xiàng)目 | 明細(xì) | |
產(chǎn)品型號 | CY-MSH300- II-DCDC-SS | |
供電電壓 | AC220V，50Hz | |
整機(jī)功率 | 4KW | |
系統(tǒng)真空 | ≦5×10-4Pa | |
樣品臺(tái) | 外形尺寸 | φ185mm |
加熱溫度 | ≦500℃ | |
控溫精度 | ±1℃ | |
可調(diào)轉(zhuǎn)速 | ≦20rpm | |
磁控靶槍 | 靶材尺寸 | 直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm |
冷卻模式 | 循環(huán)水冷 | |
水流大小 | 不小于10L/Min | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | 直徑φ325mm，高度500mm |
腔體材質(zhì) | SUU304不銹鋼 | |
觀察窗口 | 直徑φ100mm | |
開啟方式 | 頂開式 | |
氣體控制 | 1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量，量程為:200SCCM | |
真空系統(tǒng) | 配分子泵系統(tǒng)1套，氣體抽速600L/S | |
膜厚測量 | 可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ? | |
濺射電源 | 直流電源500W*2 | |
控制系統(tǒng) | CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng) | |
設(shè)備尺寸 | 600mm × 650mm × 1280mm | |
設(shè)備重量 | 350kg | |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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