目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSH300-III-DCDCRF-SS?三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 10萬-30萬 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 電子/電池,鋼鐵/金屬,航空航天,制藥/生物制藥,汽車及零部件 |
三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)為我公司研發(fā)的實驗室專用鍍膜儀，設備可選配直流電源，和射頻電源，功率從500W-1000W不等，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等。
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長時間穩(wěn)定工作。
設備經(jīng)過緊湊化設計，實現(xiàn)了體積與性能的平衡，造型美觀功能齊全。整機均采用觸控屏控制，內置一鍵式鍍膜程序，操作簡單易上手，是一款實驗室制備薄膜的理想設備。
三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)技術參數(shù)：
項目 | 明細 | |
產(chǎn)品型號 | CY-MSH300-III-DCDCRF-SS | |
供電電壓 | AC220V，50Hz | |
整機功率 | 4KW | |
系統(tǒng)真空 | ≦5×10-4Pa | |
樣品臺 | 尺寸 | φ140mm |
控溫精度 | ±1℃ | |
加熱溫度 | *高500℃ | |
轉速 | 1-20rpm可調 | |
磁控濺射頭 | 數(shù)量 | 2" x3 （1",2"可選） |
水冷機規(guī)格 | 10L/min流速的循環(huán)水冷機 | |
冷卻方式 | 水冷 | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | Dia.300mm×300mm |
觀察窗口 | φ100mm | |
開啟方式 | 上頂開式 | |
腔體材料 | 不銹鋼 | |
質量流量計 | 2路；量程100sccm；100sccm（可根據(jù)客戶需要定制多路氣路） | |
真空系統(tǒng)
| 產(chǎn)品型號 | CY-GZK103-A |
抽氣接口 | CF160 | |
分子泵 | CY-600 | |
排氣接口 | KF40 | |
前極泵 | 旋片泵 | |
真空測量 | 復合真空計 | |
極限真空 | 1.0E-5Pa | |
供電電源 | AC;220V 50/60Hz | |
抽氣速率 | 分子泵：600L/S 旋片泵：1.1L/S 綜合抽氣性能：20分鐘真空度可達： 1.0E-3Pa | |
電源配置 | 數(shù)量 | 直流電源x2 射頻電源 x1 |
*大輸出功率 | 直流電源500W 射頻電源500W | |
膜厚測量 | 可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ? | |
控制系統(tǒng) | CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng) | |
整機尺寸 | 600mm X 650mm X 1280mm | |
整機重量 | 300kg | |
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