小型粉末PVD包覆磁控鍍膜儀系統(tǒng)

產(chǎn)品特點  

1、可對粉體材料進行表面包覆：采用磁控濺射，濺射時粉體材料在振動樣品臺上翻滾，達到粉體表面均勻包覆  

2、設備小巧可在手套箱內(nèi)使用，可處理樣敏感性材料  

技術(shù)參數(shù)  

1、輸入電壓：220 VAC 50/60Hz
2、電源輸出:1600 VDC 250 W
3、ZUI大電流：150 mA .
4、濺射頭：2英寸角度可調(diào)節(jié)濺射頭
5、振動樣品臺：
樣品臺振動頻率可調(diào)節(jié)：6-33Hz
樣品臺直徑為50mm
建議樣品量: < 500 mg
建議顆粒尺寸: 1 ~ 1000um
石英腔體尺寸：165 mm OD.×150 mm ID×250 mm H
6、真空度：
①1.0E-2 Torr（采用機械泵），可濺射Au, Ag, Pt, Cu, Mo等靶
② 1.0E-5 Torr（采用分子泵），可濺射Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn等易氧化金屬靶*大真空度可達到< 4.0E-6 Torr（分子泵系統(tǒng)抽時間12小時，腔體進行烘烤）
7、CE認證  

產(chǎn)品規(guī)格  

外形尺寸：長460×寬330×高810mm  凈重：20Kg  

注意事項  

警告：
1、濺射頭與高壓電源相連接，操作時必須佩帶防護手套
2、濺射前必須確保靶材，濺射頭，基片和樣品臺清潔，需要用砂紙和乙醇來清洗，Al或是Ni靶每次使用時都必須清洗和處理
注意：粉末樣品必須干燥和分散