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本文要點:第二近紅外(NIR-II)熒光材料在生物醫(yī)學成像和光學傳感領域具有廣闊應用前景,但其發(fā)展受限于發(fā)射波長較短、光致發(fā)光效率低下及發(fā)射光譜狹窄等問題。本研究通過壓力工程成功實現(xiàn)了零維無鉛空位有序雙鈣鈦礦Cs2WCl6從第一近紅外(NIR-I)到NIR-II窗口的發(fā)射調(diào)控。在外加壓力作用下,材料表現(xiàn)出6.9倍的發(fā)射增強與高達227 nm的紅移現(xiàn)象。壓力效應通過增強結(jié)構(gòu)剛性降低電子-聲子耦合作用,減少非輻射能量損耗,進而優(yōu)化了振動耦合d-d電子躍遷(1T2g/1Eg→3T1g)的發(fā)射性能。隨著壓力增加,3T1g與1T2g/1Eg能級差持續(xù)減小,W─Cl鍵收縮加劇晶體場分裂,多態(tài)發(fā)射平衡調(diào)控共同驅(qū)動發(fā)射紅移。該研究不僅驗證了壓力調(diào)控實現(xiàn)NIR-II發(fā)射的有效性,更為結(jié)構(gòu)演變與光學性能的關聯(lián)機制提供了深層理論闡釋。


圖1. Cs2WCl6的壓力調(diào)制能帶結(jié)構(gòu)演化與壓致變色
在Cs2WCl6的晶體結(jié)構(gòu)中,該材料以A2BCX6型零維空位有序雙鈣鈦礦框架結(jié)晶(B位點=W??;C位點空位),鎢原子與六個氯原子形成八面體配位的孤立[WCl6]2?單元(圖1a)。這些被Cs?陽離子分隔的八面體單元構(gòu)建出零維結(jié)構(gòu),其空位有序設計會引發(fā)強烈瞬態(tài)晶格畸變,導致體系內(nèi)產(chǎn)生顯著的電子-聲子耦合作用。然而,[WCl6]2?八面體的高對稱性通過限制結(jié)構(gòu)畸變抑制了自陷激子(STEs)形成,而W??構(gòu)型的強晶體場分裂(10Dq)促進了自旋軌道耦合的d-d電子躍遷。具體而言,近紅外發(fā)射源于宇稱與自旋禁阻的1T2g/1Eg→3T1g躍遷,該躍遷通過振動耦合和相對論性自旋軌道相互作用獲得部分允許。常壓下,Cs2WCl6展現(xiàn)出900-1300 nm的寬發(fā)射光譜,峰值位于973 nm(圖1b)。
為深入探究Cs2WCl6能帶結(jié)構(gòu)的演化規(guī)律,首先開展原位高壓紫外-可見吸收測試(圖1c,d)。加壓過程中樣品顏色由綠漸變?yōu)槌?、黃、紅直至棕褐色,呈現(xiàn)顯著壓致變色效應(圖1c)。吸收光譜持續(xù)紅移(圖1c,d),其中477 nm處的初始吸收邊對應常壓2.6 eV的間接帶隙。當壓力升至18.0 GPa時,基于Tauc圖計算顯示帶隙縮窄至1.9 eV(圖1f)。繼續(xù)加壓至28.0 GPa仍觀察到吸收光譜紅移,對應帶隙持續(xù)減小。帶隙壓力敏感性呈現(xiàn)兩段線性變化:7.2 GPa以下以0.05 eV/GPa速率快速下降,超過該壓力后降速減緩至0.025 eV/GPa,這種突變可能預示著壓力誘導的電子結(jié)構(gòu)相變。
值得注意的是,550-950 nm范圍內(nèi)的吸收光譜存在顯著子帶吸收峰(圖1b,e),源于3T1g→1T2g/1Eg的d-d躍遷。隨著壓力增加,該吸收峰逐漸紅移,表明3T1g基態(tài)與1T2g/1Eg激發(fā)態(tài)之間的能隙減小。由于相應的1T2g/1Eg→3T1g躍遷是主要發(fā)射路徑,可推測熒光發(fā)射峰也將伴隨吸收紅移產(chǎn)生相應變化。

圖2. NIR-II窗口中的調(diào)制發(fā)射
低溫(78-318K)光致發(fā)光(PL)測試表明,隨著溫度降低,Cs2WCl6的發(fā)射強度增強并呈現(xiàn)多峰分辨的光譜特征(圖2a)。圖2b-f展示了不同壓力下Cs2WCl6在900-1700 nm范圍內(nèi)的PL光譜變化。研究發(fā)現(xiàn),從常壓到28 GPa壓力范圍內(nèi),Cs2WCl6的發(fā)射始終保持在近紅外區(qū)域。值得注意的是,熒光強度隨壓力增加而提升,在7.0 GPa時達到6.9倍的最大增強(圖2b-d)。該強度峰值與圖1g中7.2 GPa處觀察到的帶隙變化相吻合,表明電子結(jié)構(gòu)調(diào)控與發(fā)光特性存在強關聯(lián)性。
常壓下Cs2WCl6的發(fā)射中心位于973 nm,其光譜主要分布在NIR-I區(qū)域,NIR-II窗口的發(fā)射較弱,限制了應用潛力。壓力釋放后,材料熒光強度降低且相較于初始狀態(tài)殘留10 nm紅移,表明壓力誘導的部分非晶化阻礙了結(jié)構(gòu)恢復(附圖S6)。高壓研究顯示發(fā)射中心呈現(xiàn)近線性紅移,從973 nm移動至1200 nm,總偏移量達227 nm,壓力敏感度Δλ/ΔP=7.9 nm·GPa?1。歸一化PL光譜證實壓縮后的Cs2WCl6發(fā)射顯著向長波方向移動(圖2e,f)。此外,隨著壓力增加,PL光譜的半高寬逐漸展寬,表明近紅外發(fā)射窗口擴大。由此可見,壓力調(diào)控成功實現(xiàn)了Cs2WCl6發(fā)射從NIR-I到NIR-II窗口的跨越,這對發(fā)展NIR-II窗口近紅外材料具有重要意義。

為深入理解Cs2WCl6結(jié)構(gòu)與光學特性的關聯(lián)性,開展了高壓同步輻射X射線衍射(XRD)實驗(圖3a)。通過對XRD數(shù)據(jù)的精修,確認了Cs2WCl6初始立方相結(jié)構(gòu),其屬于Fm-3m空間群,晶格參數(shù)a=10.23 ?(α=β=γ=90°),與文獻報道一致(圖3b)。圖3a中XRD峰位隨壓力增加向高角度方向的移動證實了結(jié)構(gòu)壓縮現(xiàn)象。值得注意的是,在整個測試壓力范圍內(nèi)未出現(xiàn)新衍射峰,表明材料保持結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性而未發(fā)生相變。當壓力升至18.0 GPa時,衍射峰強度下降暗示晶體的長程有序結(jié)構(gòu)遭到破壞,導致結(jié)晶度降低。

圖4. Cs2WCl6在壓力下銫的排放機理說
PL光譜分析顯示存在不對稱發(fā)射峰,表明1T2g/1Eg→3T1g躍遷存在不同振動耦合能級的發(fā)射特征(圖4)。通過高斯分峰擬合獲得三個對稱發(fā)射峰:963 nm(1.29 eV,常壓)、1060 nm(1.17 eV,常壓)和1181 nm(1.05 eV,1.0 GPa),分別對應E1、E2和E3三個相鄰發(fā)射能級。這些峰位呈現(xiàn)高度一致的0.12 eV能級間隔,源于1T2g/1Eg激發(fā)態(tài)與3T1g基態(tài)不同振動激發(fā)態(tài)(v=1,2,3)之間的輻射躍遷。值得注意的是,常壓下僅出現(xiàn)E1和E2兩個峰位,隨著壓力增加,第三個峰位E3逐漸顯現(xiàn)并成為核心發(fā)射點——1180 nm(1.05 eV)處E3峰的出現(xiàn),標志著壓力激活了低能振動態(tài)的輻射復合過程。
發(fā)射組分的強度、半高寬及峰位變化如圖4c所示。三個d-d躍遷振動耦合發(fā)射組分(E1-E3)的強度均在7.0 GPa達到最大值,與整體發(fā)射趨勢一致。超過7.0 GPa后強度逐漸下降,其中E1組分在20.0 GPa以上消失。三個組分的半高寬(在壓縮初期略有收窄,但在20.0 GPa后出現(xiàn)突變,暗示壓力誘導的振動耦合層級改變。盡管存在波動,較大的半高寬仍保障了材料在NIR-II窗口的寬譜覆蓋特性。
圖3d闡明了Cs2WCl6在常壓與壓縮狀態(tài)下的發(fā)射機制。PL光譜分析表明:常壓下材料主要通過兩個高能躍遷(E1和E2)發(fā)射,對應1T2g/1Eg→3T1g的d-d電子躍遷分別耦合v=1和v=2振動能級;而能級組分(E3,v=3)因強電子-聲子耦合處于淬滅狀態(tài)。隨著壓力增加,晶格剛性增強抑制了電子-聲子相互作用,不僅激活了更高振動能級(v=3,E3)的發(fā)射通道,還通過減少聲子輔助的非輻射損耗顯著提升了所有振動耦合d-d躍遷的輻射效率。同時,壓縮過程中基態(tài)3T1g與激發(fā)態(tài)1T2g/1Eg的能隙(ΔET)持續(xù)減小,直接驅(qū)動1T2g/1Eg→3T1g發(fā)射的整體紅移。此外,壓力誘導的W─Cl鍵收縮增強了晶體場分裂能(10Dq),進一步縮小1T2g/1Eg→3T1g能隙并放大發(fā)射紅移效應。超過7 GPa后,逐漸出現(xiàn)的晶格畸變和初始非晶化引入缺陷與應變,形成新的非輻射路徑,抵消了電子-聲子耦合減弱帶來的輻射增強,導致所有峰位的總發(fā)射強度下降。值得注意的是,在整個壓力范圍內(nèi)發(fā)射平衡持續(xù)向低能躍遷轉(zhuǎn)移:20 GPa以上最高能發(fā)射(E1)消失,而低能組分(E2、E3)占比增加,最終實現(xiàn)向更深NIR-II窗口的持續(xù)紅移。壓力對初始多組分發(fā)射平衡的擾動揭示出新型輻射通道,通過優(yōu)化協(xié)同發(fā)射特性拓寬PL光譜半高寬,最終促成寬帶NIR-II發(fā)射的轉(zhuǎn)變。
參考文獻
Wang, Jingtian, et al., Pressure Modulates Emission of Cs2WCl6 in the NIR‐II Window., Laser & Photonics Reviews (2025): e01238.
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