品牌：Elionix型號：ELS-F125/F100/HS50電子束曝光，電子束直寫，電子束光刻用途：利用電子束在抗蝕劑上書寫納米級圖案，通過ELB設備曝光和顯...

MLA150專屬為研發(fā)型以及中小批量生產(chǎn)的客戶而設計的激光直寫解決方案。區(qū)別于過去傳統(tǒng)的工藝技術而開發(fā)的無掩膜激光直寫技術，將設計圖形直接曝光到涂覆有光刻膠的襯...

μMLA無掩模光刻機是優(yōu)良的無模板技術，建立在著名的 μPG 平臺之上，該平臺是臺式無模板系統(tǒng)。適合6寸及以下襯底。

SUSS MicroTec為熱門化合物半導體工藝專門設計了一款新型光刻平臺：MA100/150e Gen2掩模對準光刻機?；衔锇雽w工藝，是指諸如高亮發(fā)光二極...

小型臺式無掩膜光刻機- MicroWriter ML3是英國公司專為實驗室設計開發(fā)，為微流控、SAW、半導體、自旋電子學等研究領域提供方便高效的微加工方案。

上海麥科威MKW-200是一個高價值的激光直寫光刻機，面向大學和研究機構尋求擴大他們的能力。它用亞微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蝕劑涂層表面大面積書寫。...