KASHIYAMA SDE200 真空泵 返回列表頁

KASHIYAMA SDE200 真空泵

產(chǎn)品簡介

KASHIYAMA SDE200 真空泵 是日本樫山工業(yè)（Kashiyama Industries, Ltd.）推出的一款高性能干式真空泵，隸屬于 SDE 系列，專為應(yīng)對半導(dǎo)體、顯示器、化學(xué)氣相沉積（CVD）等苛刻工藝環(huán)境而設(shè)計。

技術(shù)參數(shù)

• 大抽速性能：最大抽速可達 3,300 L/min，滿足苛刻工藝對真空效率的高要求。

• 低極限壓力：極限真空度低至 1.3 Pa，在未使用氮氣吹掃時亦可維持高性能穩(wěn)定運行。

• 干式運行設(shè)計：無油結(jié)構(gòu)避免了污染風(fēng)險，特別適合潔凈室環(huán)境和高純度工藝。

• 高可靠性結(jié)構(gòu)：垂直安裝的雙螺桿結(jié)構(gòu)可有效防止顆粒堆積，延長泵體壽命。

• 適應(yīng)惡劣氣氛：配備高耐腐蝕材料與溫控系統(tǒng)，適用于處理腐蝕性和反應(yīng)性氣體。

產(chǎn)品特點

• 大抽速性能：最大抽速可達 1,300 L/min，滿足苛刻工藝對真空效率的高要求。

• 低極限壓力：極限真空度低至 1.3 Pa，在未使用氮氣吹掃時亦可維持高性能穩(wěn)定運行。

• 干式運行設(shè)計：無油結(jié)構(gòu)避免了污染風(fēng)險，特別適合潔凈室環(huán)境和高純度工藝。

• 高可靠性結(jié)構(gòu)：垂直安裝的雙螺桿結(jié)構(gòu)可有效防止顆粒堆積，延長泵體壽命。

• 適應(yīng)惡劣氣氛：配備高耐腐蝕材料與溫控系統(tǒng)，適用于處理腐蝕性和反應(yīng)性氣體。

應(yīng)用領(lǐng)域

• 半導(dǎo)體蝕刻設(shè)備（Etch）

• 化學(xué)氣相沉積（CVD、PE-CVD、LP-CVD、SA-CVD）

• 原子層沉積（ALD）

• OLED 與液晶面板制造

• 精密薄膜沉積與剝離工藝

• 實驗室與潔凈室真空系統(tǒng)

可選功能配置

• 前級加熱排氣配管系統(tǒng)：防止冷凝和積碳，增強系統(tǒng)穩(wěn)定性。

• 多級溫控系統(tǒng)：根據(jù)不同應(yīng)用調(diào)節(jié)泵體溫度，提高兼容性。

• 除害裝置聯(lián)動接口：支持等離子、燃燒、冷凝等除害方式接入，提升環(huán)保性能。

• 遠程監(jiān)控與報警系統(tǒng)：實時掌握泵體運行狀態(tài)，便于系統(tǒng)集成與自動化管理。