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當(dāng)前位置:美薩科技(蘇州)有限公司>>公司動態(tài)>>美薩公司 MIKASA米卡薩 MS - B150 新品發(fā)布
在科技日新月異、制造業(yè)不斷追求**的今天,美薩公司憑借其對市場需求的敏銳洞察和強(qiáng)大的技術(shù)研發(fā)實(shí)力,隆重推出了 MIKASA 品牌的全新旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)——MIKASA MS - B150。這一新品的亮相,無疑為半導(dǎo)體制造等相關(guān)行業(yè)帶來了新的發(fā)展契機(jī)。
2025年7月最新發(fā)布MIKASA MS-B150是一款小型高性能旋涂機(jī),屬于日本MIKASA品牌,適用于潔凈室環(huán)境,主要用于半導(dǎo)體等行業(yè)的薄膜涂布工藝。該產(chǎn)品在防止污染、溫度控制及膜厚精度方面表現(xiàn)出色。
潔凈室適配性:采用AC伺服無刷電機(jī),減少發(fā)熱及污染物產(chǎn)生,適合潔凈室連續(xù)運(yùn)行。
高精度控制:轉(zhuǎn)速精度達(dá)±1rpm(負(fù)載時),膜厚再現(xiàn)性優(yōu)異。
操作靈活性:支持100步×10種模式的步進(jìn)控制,可自定義涂布流程。
參數(shù)項(xiàng) | 詳細(xì)規(guī)格 |
---|---|
最大板尺寸 | φ4英寸晶圓或75×75mm基板 |
轉(zhuǎn)速范圍 | 20~8,000轉(zhuǎn)/分 |
旋轉(zhuǎn)精度 | ±1rpm(負(fù)載時) |
真空系統(tǒng) | 標(biāo)準(zhǔn)配備真空聯(lián)鎖裝置,壓力-0.08~-0.1MPa |
外形與重量 | 259寬×246高×330深(毫米),10公斤 |
可選配置 | 蓋子(需單獨(dú)選購) |
其他限制 | 無法安裝滴水裝置 |
半導(dǎo)體制造:晶圓表面涂層制備。
精密電子:小型基板的均勻涂布工藝。
科研實(shí)驗(yàn):實(shí)驗(yàn)室級薄膜材料研發(fā)。
MIKASA MS - B150旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)主要用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,特別是光刻曝光環(huán)節(jié)。它可以實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體制造的光刻膠的旋轉(zhuǎn)涂布,還能對其它低粘度液體進(jìn)行均勻涂布。此外,該產(chǎn)品還可用于光刻處理旋涂、掩模對準(zhǔn)以及開發(fā)和蝕刻研究等工作,并且可搭配各種測量機(jī),用于薄膜厚度測量、步差、線寬和形狀測量等。
旋轉(zhuǎn)精度高:具備±1rpm的高精度,能確保在負(fù)載時也能穩(wěn)定運(yùn)行,從而保證涂布的精準(zhǔn)度。
旋轉(zhuǎn)參數(shù)可任意設(shè)定:可任意設(shè)定旋轉(zhuǎn)數(shù)(0 - 5,000rpm)和到達(dá)旋轉(zhuǎn)數(shù)的時間(0.2sec - 999.9sec),通過對這些參數(shù)的調(diào)整,能輕易地控制膜厚,滿足不同的生產(chǎn)需求。
可追加裝置:可追加滴下裝置(MS - A150/MS - A200)和膜厚測量裝置,如OFPR - 800LB(東京應(yīng)化制)或FILMETRICS制F50,進(jìn)一步完善產(chǎn)品功能。
擴(kuò)張程式功能:擁有擴(kuò)張程式功能,最多有100階段程式、可記憶10種模式,使操作更加簡便,提高了使用的便利性。
無刷式設(shè)計(jì):采用無刷式設(shè)計(jì),不會造成無塵室污染,適用于對環(huán)境要求較高的半導(dǎo)體制造環(huán)境。
減少發(fā)熱影響:減少電動機(jī)發(fā)熱,降低了因連續(xù)使用時的溫度上升對膜厚再現(xiàn)性的影響,保證了產(chǎn)品的穩(wěn)定性和可靠性。
低電力消費(fèi):電力消費(fèi)低,有助于減低環(huán)境的負(fù)擔(dān),符合環(huán)保理念。
標(biāo)準(zhǔn)配備數(shù)位式真空計(jì):所有機(jī)型皆標(biāo)準(zhǔn)配備數(shù)位式真空計(jì),方便用戶實(shí)時監(jiān)測真空狀態(tài)。
停止位置可設(shè)定:方形基板等可設(shè)定停止時位置,操作超方便,提高了生產(chǎn)效率。
安全裝置完善:配備安全裝置機(jī)構(gòu)(真空壓及蓋子),保障操作人員的安全
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