搜全站
   聯(lián)系電話(huà)

   4008529632

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司

6
  • 2021

    03-19

    岱美與您分享光學(xué)形貌儀的特性說(shuō)明

    光學(xué)形貌儀進(jìn)行表面粗糙度和表面形貌測(cè)量時(shí),比探針式輪廓儀有更低的成本,但同樣使用了當(dāng)今較高分辨率光學(xué)輪廓儀采用的白光干涉(WSI)及相移干涉(PSI)測(cè)量技術(shù),垂直分辨率可達(dá)次納米級(jí)。光學(xué)形貌儀的直觀(guān)軟件包括表面粗糙度,形狀和臺(tái)階高度的測(cè)量,在數(shù)秒內(nèi),您可以獲得平面和曲面表面形貌測(cè)量所有常見(jiàn)的粗糙度參數(shù)。也可以選擇拼接功能軟件來(lái)組合多個(gè)影像以提供大面積的測(cè)量。光學(xué)形貌儀可存儲(chǔ)、共享、查看與分析來(lái)自您的光學(xué)輪廓儀或3D顯微鏡之3D影像。任何臺(tái)式電腦,平板電腦或智能手機(jī)上都能查看和操作。享受全面的圖
  • 2021

    01-26

    怎樣正確使用膜厚測(cè)量?jī)x才能保證測(cè)量準(zhǔn)確

    在加工行業(yè)當(dāng)中,工人們經(jīng)常使用到的一類(lèi)測(cè)量?jī)x器是膜厚儀,膜厚測(cè)量?jī)x能夠?qū)Ω黝?lèi)材料進(jìn)行厚度的準(zhǔn)確測(cè)量,從而能夠給加工企業(yè)帶來(lái)很好的參考建議。讓它們能夠做出詳細(xì)判斷和考量,以此來(lái)有效避免生產(chǎn)后期的大量返工。而用戶(hù)在使用膜厚儀的時(shí)候一定要特別小心謹(jǐn)慎,不能夠過(guò)于馬虎大意,只有這樣才能夠獲得更為準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果。那我們?cè)撛鯓诱_使用膜厚測(cè)量?jī)x呢?這是一個(gè)值得深刻進(jìn)行探討的問(wèn)題,下面就由測(cè)量專(zhuān)家來(lái)為大家進(jìn)行解惑吧。第1、我們要選擇金屬磁性及表面粗糙度與試件基體接近的標(biāo)準(zhǔn)片來(lái)予以測(cè)量,這樣才能夠確保儀器的測(cè)量
  • 2021

    01-17

    隔振臺(tái)在實(shí)際應(yīng)用上具有八大優(yōu)勢(shì)

    隔振臺(tái)采用了剛性彈簧和負(fù)剛度機(jī)制,達(dá)到極低凈垂向剛度,而凈符合支持能力則未受到絲毫影響。水平振動(dòng)阻隔效果由梁柱與垂直運(yùn)動(dòng)隔離器串聯(lián)實(shí)現(xiàn)。只要調(diào)整至1/2Hz固定頻率,該工作站就能實(shí)現(xiàn)2Hz下93%的阻隔效率,5Hz下99%的阻隔效率和10Hz下99.7%的阻隔效率。MinusK垂直隔離器,附帶KineticSystem動(dòng)力系統(tǒng),更為您帶來(lái)更好的使用體驗(yàn)和額外的底架空間。隔振臺(tái)主要優(yōu)勢(shì):1、小的厚度,輕的質(zhì)量;2、大大提高設(shè)備性能及質(zhì)量;3、易于集成到工作站中;4、沒(méi)有調(diào)試要求—安裝極簡(jiǎn);5、全解
  • 2020

    12-28

    沒(méi)想到白光干涉儀的應(yīng)用如此廣泛

    白光干涉儀目前在3D檢測(cè)領(lǐng)域是精度高的測(cè)量?jī)x器之一,在同等系統(tǒng)放大倍率下檢測(cè)精度和重復(fù)精度都高于共聚焦顯微鏡和聚焦成像顯微鏡,在一些納米級(jí)和亞納米級(jí)的超精密加工領(lǐng)域,除了白光干涉儀,其它的儀器無(wú)法達(dá)到其測(cè)量精度要求。儀器的測(cè)量原理:本儀器是利用光學(xué)干涉原理研制開(kāi)發(fā)的超精密表面輪廓測(cè)量?jī)x器。照明光束經(jīng)半反半透分光鏡分威兩束光,分別投射到樣品表面和參考鏡表面。從兩個(gè)表面反射的兩束光再次通過(guò)分光鏡后合成一束光,并由成像系統(tǒng)在CCD相機(jī)感光面形成兩個(gè)疊加的像。由于兩束光相互干涉,在CCD相機(jī)感光面會(huì)觀(guān)察
  • 2020

    12-16

    詳細(xì)分析掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)的試驗(yàn)檢查方法

    掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)的試驗(yàn)方法:1、環(huán)境條件檢查:a、溫度、相對(duì)濕度檢查:試驗(yàn)期間,用精度不低于1級(jí)的干濕球濕度計(jì)每4h測(cè)試一次環(huán)境的溫度,相對(duì)濕度。千濕球濕度計(jì)應(yīng)置放在與工作臺(tái)高度一致,沒(méi)有氣流的地方;b、潔凈度檢查:試驗(yàn)期間,每4h測(cè)試一次潔凈度。選用測(cè)試精度能滿(mǎn)足相應(yīng)潔凈度等級(jí)的光學(xué)粒子計(jì)數(shù)器檢測(cè)有效工作區(qū)域的潔凈度;c、地面振動(dòng)檢查:試驗(yàn)期間,測(cè)試一次地面振動(dòng)幅度,振動(dòng)分析儀的拾振裝置應(yīng)置放于工作臺(tái)機(jī)座附近。2、外觀(guān)檢查:a、用目視法進(jìn)行外觀(guān)質(zhì)量檢查;b、用手感方法檢查移動(dòng)機(jī)構(gòu)的空位及運(yùn)動(dòng)情況
  • 2020

    11-25

    接觸式光刻機(jī)在涂膠工藝上有哪些特殊之處?

    作為光刻工藝中zuì重要設(shè)備之一,接觸式光刻機(jī)一次次革命性的突破,使大模集成電路制造技術(shù)飛速向前發(fā)展。了解提高接觸式光刻機(jī)性能的關(guān)鍵技術(shù)以及了解下一代光刻技術(shù)的發(fā)展情況是十分重要的。光刻意思是用光來(lái)制作一個(gè)圖形(工藝);在硅片表面勻膠,然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過(guò)程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時(shí)“復(fù)制”到硅片上的過(guò)程。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。接觸式光刻機(jī)是集成電路芯片制造的關(guān)鍵核心設(shè)備。光刻機(jī)是微電子裝備的,技術(shù)難度zu
  • 2020

    11-13

    細(xì)說(shuō)接觸式光刻機(jī)的使用原理及性能指標(biāo)

    大家也許還不是非常的清楚,刻錄機(jī)的種類(lèi)有非常的多,其中的技術(shù)原理也不盡相同,下面就由我來(lái)給大家簡(jiǎn)單介紹一下有關(guān)接觸式光刻機(jī)的使用原理及性能指標(biāo)。接觸式光刻機(jī)的使用原理:其實(shí)在我國(guó)對(duì)于接觸式光刻機(jī),曝光時(shí)掩模壓在光刻膠的襯底晶片上,其主要優(yōu)點(diǎn)是可以使用價(jià)格較低的設(shè)備制造出較小的特征尺寸。我們也許不知道接觸式光刻和深亞微米光源已經(jīng)達(dá)到了小于0.1gm的特征尺寸,常用的光源分辨率為0.5gm左右。接觸式光刻機(jī)的掩模版包括了要復(fù)制到襯底上的所有芯片陣列圖形。在襯底上涂上光刻膠,并被安裝到一個(gè)由手動(dòng)控制的
  • 2020

    11-02

    翹曲度測(cè)量?jī)x的功能優(yōu)點(diǎn)體現(xiàn)在哪里

    美國(guó)FSM成立于1988年,總部位于圣何塞,多年來(lái)為半導(dǎo)體行業(yè)等高新行業(yè)提供各式精密的測(cè)量設(shè)備。美國(guó)FSM高溫薄膜應(yīng)力及翹曲度測(cè)量?jī)x特殊功能優(yōu)點(diǎn):1、*封閉的設(shè)計(jì),溫度更穩(wěn)定。2、特殊的設(shè)計(jì)使震動(dòng)偏移降到較低。3、圖形式使用界面更容易使用。4、當(dāng)改變彈性模數(shù),晶圓或薄膜厚度設(shè)備會(huì)自動(dòng)重新計(jì)算應(yīng)力保存數(shù)據(jù)文檔。5、可以計(jì)算雙軸彈性模量和線(xiàn)膨脹系數(shù)。6、可以計(jì)算應(yīng)力的均勻性。7、可以輸出數(shù)據(jù)到Excel,提供給SPC分析。8、多重導(dǎo)向銷(xiāo)設(shè)計(jì),手動(dòng)裝載樣品,有優(yōu)異的重復(fù)性與再現(xiàn)性研究。9、優(yōu)異的分辨率
  • 2020

    10-30

    你對(duì)可調(diào)式實(shí)時(shí)應(yīng)力儀了解多少?

    StrainScopeFlex可調(diào)式實(shí)時(shí)應(yīng)力儀產(chǎn)品具有測(cè)量速度快、精度高、重復(fù)性好等特點(diǎn),對(duì)大尺寸樣品可拼接測(cè)量。其應(yīng)力測(cè)量設(shè)備用戶(hù)遍及*,用戶(hù)包括肖特、卡爾-蔡司、JENOPTIK、Saint-Gbbain、Euro-Glass等著名公司。應(yīng)用領(lǐng)域包括光學(xué)材料、醫(yī)用包裝材料、高分子類(lèi)密封材料等。Flex系列可調(diào)式實(shí)時(shí)應(yīng)力儀主要產(chǎn)品有三大系列:M系列高精度型;S系列實(shí)時(shí)型;M系列大口徑拼接型1、單口徑一次成像。測(cè)量時(shí)間<45s,測(cè)量速度快。2、空間分辨率高,低噪聲。3、操作方便、自動(dòng)化測(cè)量。4、
  • 2020

    09-25

    Subnano3D干涉輪廓儀不得不說(shuō)的優(yōu)點(diǎn)

    Subnano3D干涉輪廓儀建立在移相干涉測(cè)量(PSI)、白光垂直掃描干涉測(cè)量(VSI)和單色光垂直掃描干涉測(cè)量(CSI)等技術(shù)的基礎(chǔ)上,以其納米級(jí)測(cè)量準(zhǔn)確度和重復(fù)性(穩(wěn)定性)定量地反映出被測(cè)件的表面粗糙度、表面輪廓、臺(tái)階高度、關(guān)鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應(yīng)用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技術(shù)、材料、太陽(yáng)能電池技術(shù)等領(lǐng)域。Subnano3D干涉輪廓儀產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn):1、美國(guó)硅谷研發(fā)的核心技術(shù)和系統(tǒng)軟件。2、關(guān)鍵硬件采用美國(guó)、德國(guó)、日本等。3、PI納米移動(dòng)平臺(tái)及控制系統(tǒng)。4
234567共7頁(yè)130條記錄