目錄:鄭州成越科學(xué)儀器有限公司>>快速退火爐>> CY-RTP1000-Φ180-300-V-T3D打印真空退火爐
| 參考價(jià) | ￥ 32000 |
| 訂貨量 | ≥1臺(tái) |
| ￥32000 |
| ≥1臺(tái) |
更新時(shí)間：2025-09-06 17:19:34瀏覽次數(shù)：150評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 2萬(wàn)-5萬(wàn) |
|---|---|---|---|
| 儀器種類 | 管式爐 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 |
3D打印真空退火爐應(yīng)用范圍:陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、耐火材料、特種材料、建材的退火。高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒、陶瓷燒結(jié)、高溫實(shí)驗(yàn)、材料處理、工礦企業(yè)做真空釬焊、真空燒結(jié)、真空脫脂、真空退火等應(yīng)用材料:進(jìn)口鎢絲燈管、高純氧化鋁纖維、真空成型纖維輕板材料設(shè)備特點(diǎn):溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn),
RTP退火爐應(yīng)用領(lǐng)域：
1、活化離子注入雜質(zhì)，形成超薄結(jié)合。離子注入是半導(dǎo)體制造工藝中非常重要的一道工序，是用來(lái)把改變導(dǎo)電率的攙雜材料注入半導(dǎo)體晶片的標(biāo)準(zhǔn)工藝技術(shù)。
2、制作高質(zhì)量的 SiO,膜層。IC 制造對(duì)氧化膜層提出了很高的要求其中zui基本的要求使膜層更薄，采用傳統(tǒng)的技術(shù)即通過(guò)降低氧化反應(yīng)的溫度來(lái)降低氧化速率即會(huì)帶來(lái)另一個(gè)問(wèn)題，生長(zhǎng)溫度的降低會(huì)導(dǎo)致固定電荷和界面密度增加，影響氧化層質(zhì)量。RTP熱氧化工藝可以在合適的高溫下實(shí)現(xiàn)短時(shí)間的氧化。另一方面，可以利用往腔體內(nèi)通入氬或其它惰性氣體來(lái)稀釋氧氣達(dá)到降低氧化速率的目的。
3、用于金屬硅化物合金形成。RTP退火爐被廣泛地用于在器件中制備金屬硅化物。
RTP退火爐產(chǎn)品特點(diǎn)：
1. 結(jié)構(gòu)緊湊，節(jié)省空間；
2. 快速升降溫；
3. 精準(zhǔn)溫控與均勻性；
4.氣氛控制靈活；
3D打印真空退火爐技術(shù)參數(shù)：
產(chǎn)品名稱 | 3D高真空退火爐 |
產(chǎn)品型號(hào) | CY-RTP1000-Φ180-300-V-T-3D |
爐體結(jié)構(gòu) | 雙層殼體結(jié)構(gòu) |
額定功率 | 10KW |
額定電壓 | 220v |
頻 率 | 50HZ |
相 數(shù) | 單相 |
*高溫度 | 1050°C |
使用溫度 | 950° |
升溫速率 | <200°C/min |
產(chǎn)品型號(hào) | SLZK1000-180 |
爐膛尺寸 | 直徑170*300mm |
爐管尺寸 | 外徑180*600mm |
外觀尺寸 | 700*640*970(寬*深*高) |
精 度 | <+1 |
溫控方式 | PID調(diào)節(jié) |
熱電偶型號(hào) | K型熱電偶 |
加熱元件 | 紅外管 |
爐膛材料 | 高純石英管 |
重 量 | 90kg |
開(kāi)關(guān)型號(hào) | 單相220V |
真空系統(tǒng) | 采用TC1.5真空泵、分子泵 |
真空度 | 667*10-3pa |
可通氣氛 | 氮?dú)狻铓?惰性氣體 |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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