目錄:鄭州成越科學(xué)儀器有限公司>>電子束,激光鍍膜儀>> CY-EB電子束蒸發(fā)鍍膜儀
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 1-5萬 | 
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 | 
電子束蒸發(fā)鍍膜儀系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺等部分組成。電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)可以廣泛應(yīng)用于制備高純薄膜和導(dǎo)電玻璃等各種光學(xué)材料薄膜。
電子束蒸發(fā)鍍膜儀設(shè)備用途:
用于制備導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜等,廣泛應(yīng)用于大專院校、科研機(jī)構(gòu)的科研及小批量生產(chǎn)。
電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)技術(shù)參數(shù):
| 結(jié)構(gòu)形式 | 真空室采用U型箱體前開門,后置抽氣系統(tǒng) | |
| 真空室 | 500×500×600mm2 | |
| 真空系統(tǒng)配置 | 復(fù)合分子泵、機(jī)械泵、閘板閥 | |
| 極限壓力 | ≤6. 67×10-5Pa (經(jīng)烘烤除氣后); | |
| 恢復(fù)真空時間 | 45分鐘可達(dá)到6. 67×10-4Pa (系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥 氮?dú)夂螅? | |
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 電子束 蒸發(fā)源 | e型電子槍 | 陽極電壓:6kv、8kv; | 
| 數(shù)量(套) | 1 | |
| 坩堝 | 水冷式坩堝,四穴設(shè)計(jì),每個容量11ml | |
| 功率 | 0一6 KW可調(diào) | |
| 電阻蒸發(fā)源 (可選) | 電壓 | 5、10V | 
| 功率 | 電流300A,*大輸出功率3KW | |
| 數(shù)量 | 1套,可切換 | |
| 水冷電極 | 3根,組成2個蒸發(fā)舟 | |
| 工件架類型及尺寸 | 基片尺寸:可放置4"基片,加熱zui高溫度800℃±1℃ ,基片可連續(xù)回轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速5~60轉(zhuǎn)/分 基片與蒸發(fā)源之間距離300~350mm可調(diào),手動控制樣品擋板組件1套 | |
| 氣路系統(tǒng) | 200SCCM質(zhì)量流量控制器1路 | |
| 石英晶振膜厚控制儀 | 監(jiān)測膜厚顯示范圍:0~99 u 9999A; | |
| 設(shè)備占地面積 | 主機(jī) | 900×800mm2 | 
| 電控柜 | 800×800mm2 (兩個) | |
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