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低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)LPCVD 簡(jiǎn)介:1. 滿足石墨烯和碳納米管研究的高溫和快速冷卻要求2. 直徑200毫米的石英室3. 內(nèi)部石英管的設(shè)計(jì)便于拆卸和清洗4. 基...
TFS 500 是薄膜鍍膜應(yīng)用的理想選擇。作為第一個(gè) Beneq 反應(yīng)器模型,已被證明是用于深入研究原子層沉積研究和穩(wěn)健批處理的多功能工具。TFS 500 是多...
Beneq P800 專門設(shè)計(jì)用于涂覆復(fù)雜形狀的大零件或大批量的小零件。我們的客戶將 P800 用于光學(xué)鍍膜、半導(dǎo)體設(shè)備部件的防腐鍍膜,以及在玻璃或金屬板上使用...
Beneq TFS 200 是有史以來(lái)最靈活的原子層沉積研究平臺(tái),專為學(xué)術(shù)研究和企業(yè)研發(fā)而設(shè)計(jì)。Beneq TFS 200 經(jīng)過(guò)專門設(shè)計(jì),可最大限度地減少多用戶...
Kurt J. Lesker Company (KJLC) ALD150LE™是我們但極其靈活的原子層沉積 (ALD) 系統(tǒng),專為入門級(jí)到中級(jí)用戶而...
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