目錄:鄭州成越科學(xué)儀器有限公司>>PECVD氣相沉積系統(tǒng)>> CY-PECVD-500T-SS晶圓鍍膜設(shè)備PECVD氣相沉積
等離子增強型化學(xué)氣相淀積（PECVD）是化學(xué)氣相淀積的一種，其特點是在低溫下利用等離子體的激活作用來增強化學(xué)氣相沉積反應(yīng)。這種方法的優(yōu)點是沉積溫度低，沉積速率快，而且制得的薄膜具有優(yōu)良的電學(xué)性能、良好的襯底附著性以及精確的臺階覆蓋性。
晶圓鍍膜設(shè)備PECVD氣相沉積應(yīng)用領(lǐng)域：
等離子增強CVD系統(tǒng)可以用于：石墨烯制備、硫化物制備、納米材料制備等多種試驗場所?？稍谄瑺罨蝾愃菩螤顦悠繁砻娉练eSiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜，并可沉積p型、n型摻雜薄膜。沉積的薄膜具有良好的均勻性、致密性、粘附性、絕緣性。廣泛應(yīng)用于刀具、高精模具、硬質(zhì)涂層、**裝飾等領(lǐng)域，PECVD氣相沉積在超大規(guī)模集成電路、光電器件、MEMS等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用.
晶圓鍍膜設(shè)備PECVD氣相沉積技術(shù)參數(shù)：
產(chǎn)品名稱 | PECVD氣相沉積 |
產(chǎn)品型號 | CY-PECVD-500T-SS |
腔體尺寸 | φ500 |
溫區(qū)長度 | 200 |
射頻電源 | 500W- |
溫度 | 1000℃- |
前級泵 | 分子泵組 |
顯示類型 | T |
溫區(qū) | I- |
水冷機 | CW5200 |
腔體材質(zhì) | SS |
樣品加熱加熱溫度 | RT-1000℃以上，溫控精度：±1°C，采用控溫表進行控溫； 可調(diào)轉(zhuǎn)速：1-20rpm可調(diào) |
噴淋頭尺寸 | Φ90mm，噴淋頭與樣品之間電極間距40-100mm在線連續(xù)可調(diào)（可根據(jù)工藝調(diào)整），并帶有標(biāo)尺指數(shù)顯示 |
樣品臺 | 直徑200mm |
沉積工作真空 | 0.133-133Pa（可根據(jù)工藝調(diào)整） |
頂部法蘭 | 可通過馬達提升，基板更換方便，有可視口 |
基板臺 | 基板臺的線性和方位角運動，基板加熱和溫度控制，安裝臺和觸摸屏控制，基板線性運動是手動控制的，基板旋轉(zhuǎn)是由直流電動機控制的 |
真空腔體 | 前開門式，φ500mm X 500mm 不銹鋼材質(zhì) |
觀察窗 | φ100mm 帶擋板 |
質(zhì)量流量計 | 六路質(zhì)量流量計 |
氣路數(shù)量 | 六路 |
承壓范圍 | -0.15Mpa~0.15Mpa |
量程 | 0~100 SCCM（氧氣） 0~100 SCCM（CF4） 0~200 SCCM （SF6） 0~200 SCCM （氬氣） 0~500 SCCM （其他氣體空氣） 0-500sccm （其他氣體氮氣） |
流量控制范圍 | ±1.5% |
氣路材料 | 304不銹鋼 |
管道接口 | 6.35mm卡套接頭 |
真空系統(tǒng) | 前級泵：無油真空泵4.7L/S 分子泵：1200L/S |
測量范圍 | 1×10-5～1×105Pa |
測量精度 | 1×10-5～1×10-4Pa ±40%的讀數(shù) 1×10-4～1×105Pa ±20%的讀數(shù) |
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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