目錄:鄭州成越科學(xué)儀器有限公司>>PECVD氣相沉積系統(tǒng)>> CY-OTF-1200X-II-PEC3-Q卷對卷式太陽能電池片PECVD氣相沉積系統(tǒng)
卷對卷式太陽能電池片PECVD氣相沉積系統(tǒng)是等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積設(shè)備(PECVD),并加裝了收放卷裝置。本設(shè)備可用于線材的連續(xù)化熱處理工藝中,如碳纖維制備、合金及其他材料線材改性處理等應(yīng)用中。也適合用于石墨烯在卷材上的連續(xù)生長。設(shè)備含卷對卷收放卷運(yùn)動模塊、1200℃雙溫區(qū)可開啟式管式爐模塊、PE等離子增強(qiáng)模塊、真空系統(tǒng)以及三路質(zhì)子流量計(jì)供氣系統(tǒng)五部分,整套體系可在真空/氣氛保護(hù)環(huán)境下工作。收放卷機(jī)構(gòu)轉(zhuǎn)速從1~400mm/min可調(diào),機(jī)構(gòu)采用反饋調(diào)節(jié),可自動糾正轉(zhuǎn)速偏差,保證樣品的速度穩(wěn)定不走樣,從而保證了實(shí)驗(yàn)的精確性。
PECVD應(yīng)用領(lǐng)域:
1.微電子與半導(dǎo)體工業(yè),介質(zhì)薄膜 低k介質(zhì) 多晶硅/非晶硅薄膜
2.光伏(太陽能電池)工業(yè),氮化硅減反射鈍化膜 非晶硅/微晶硅薄膜太陽能電池
3.顯示技術(shù)(LCD/OLED),薄膜晶體管(TFT)陣列制造
4.光學(xué)領(lǐng)域,光學(xué)薄膜
PECVD優(yōu)點(diǎn):
1.沉積溫度低
2. 薄膜質(zhì)量高
3. 良好的臺階覆蓋性和溝槽填充能力
4. 沉積速率較快
5. 廣泛的材料體系
卷對卷式太陽能電池片PECVD氣相沉積系統(tǒng)技術(shù)參數(shù):
| 1200℃雙溫區(qū)管式爐 | 供電電壓 | AC220V,50Hz | 
| 最大功率 | 3KW | |
| 加熱溫區(qū) | 雙溫區(qū)200mm+200mm | |
| 工作溫度 | ≤1200℃ | |
| 控溫精度 | ±1℃ | |
| 控溫方式 | AI-PID 30段工藝曲線,可存儲多條 | |
| 爐管材質(zhì) | 高純石英 | |
| 爐管尺寸 | φ80mm I.Dx1400mm L | |
| 密封方式 | 不銹鋼真空法蘭 | |
| 真空測量 | 電阻規(guī) | |
| 工作氣體 | 氫氣、氮?dú)?、氬氣、氧氣等非腐蝕性氣體 | |
| 真空泵 | 雙極旋片式真空泵 | |
| 極限真空度 | 10^-1Pa | |
| 三路質(zhì)量流量計(jì) | 閥門類型 | 不銹鋼針閥 | 
| 氣路數(shù)量 | 三路 | |
| 承壓范圍 | 0.05~0.3MPa | |
| 量程 | 1~100 SCCM(Ar) 1~200 SCCM(H2) 1~500 SCCM (CH4) | |
| 流量控制范圍 | ±1.5% | |
| 混氣罐容積 | 750mL | |
| 氣路材料 | 304不銹鋼 | |
| 管道接口 | 6.35mm卡套接頭 | |
| 供電電源 | AC220V 50Hz | |
| S射頻電源 | 輸出功率 | 500W | 
| 輸出精度 | ±1% | |
| 射頻頻率 | 13.56MHz | |
| 射頻穩(wěn)定度 | ±0.005% | |
| 冷卻方式 | 風(fēng)冷 | 
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