目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>PECVD氣相沉積系統(tǒng)>> CY-PECVD-50R-1200-Q單溫區(qū)旋轉PECVD石墨烯制備系統(tǒng)
單溫區(qū)旋轉PECVD石墨烯制備系統(tǒng)，安裝有真空自動投料器，爐管尾部預留KF40接口可以連接收料罐。投料器采用螺桿進料，可以以額定的速率將粉料送入爐管，投料速率可通過調節(jié)轉速來更改?？蓪崿F(xiàn)在氣氛保護的環(huán)境下連續(xù)對粉末材料用PECVD方法進行包裹和修飾。收料罐可以在氣氛保護環(huán)境下對處理好的料粉進行收集。
設備配有100W頻率13.56MHz的視頻電源。能夠在真空中產生等離子體。高能等離子體能夠活化樣品表面，有效的增強反應效果，提高反應速率，這種輔助方法廣泛用于石墨烯制備，顆粒包覆等科學實驗上。
本設備特別適合顆粒型樣品實驗，通過機械傳動能夠控制工作管360°不間斷連續(xù)旋轉，轉速可調，使得管內物料不斷的被攪拌混合，充分與氣體和等離子體接觸，使樣品的反應更加均勻穩(wěn)定。
單溫區(qū)旋轉PECVD石墨烯制備系統(tǒng)技術參數(shù)：
射頻電源
| 輸出功率 | 150W |
輸出精度 | ±1% | |
射頻頻率 | 13.56MHz | |
射頻穩(wěn)定度 | ±0.005% | |
冷卻方式 | 風冷 | |
1200℃單溫區(qū)管式爐
| 供電電壓 | AC220V，50Hz |
*大功率 | 2KW | |
加熱溫區(qū) | 單個溫區(qū)200mm | |
工作溫度 | *高1200℃，連續(xù)運行溫度應≤1100℃ | |
控溫精度 | ±1℃ | |
控溫方式 | AI-PID 30段工藝曲線，可存儲多條 三溫區(qū)獨立控制，帶有過熱和斷偶保護 | |
爐管材質 | 高純石英 | |
爐管尺寸 | φ50x800mm | |
密封方式 | 真空不銹鋼法蘭、KF16法蘭 | |
可調轉速 | 0-20rpm | |
傾斜角度 | 0-15° | |
真空泵 | 旋片機械泵 | |
極限真空度 | 1.0E-1Pa | |
進料方式 | 真空漏斗加螺桿進料 |
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