| 供貨周期 |
現(xiàn)貨 |
應用領域 |
環(huán)保,化工,電子/電池,綜合 |
日本ULVAC愛發(fā)科金屬氣相沉積電子束蒸發(fā)源
“Model：EGN" 是一種新開發(fā)的金屬氣相沉積電子束蒸發(fā)源，其重點是提高可維護性。
采用平頂結構，減少了與電子束蒸發(fā)源的粘附面積，實現(xiàn)了高可維護性。
日本ULVAC愛發(fā)科金屬氣相沉積電子束蒸發(fā)源
日本ULVAC愛發(fā)科金屬氣相沉積電子束蒸發(fā)源
特征
它抑制背向散射電子并抑制襯底溫度的升高。
平頂結構減少了電子束蒸發(fā)源上的沉積面積，使其易于清潔。
與以前的型號相比，新的發(fā)射器結構將零件數(shù)量減少到 60%，使組裝更容易。
可以選擇用于金屬沉積的帶狀光束和用于氧化物/化合物的點光束。
作為設備制造商積累的專有技術的反饋到設計。
規(guī)格
| 型 | EGN-206M 型 | EGN-406M |
| 電子束偏轉角 | 270° |
| 坩堝數(shù)量 | 6 |
| 坩堝容量 | 20毫升 | 40毫升 |
| 坩堝尺寸： 頂部 × 底部× 深度 | Φ42×Φ32×19（毫米） | Φ50×Φ41×25（毫米） |
| 冷卻水 | 爐 邊 | 10L/min 或更高 |
| 其他 | 2L/min 或更高 |
尺寸尺寸（寬×深×高）
不包含突起項 | 214×343×144（毫米） |
| 重量 | 28 公斤或以下 |
| 沉積速率 | 1.6μm/min
（帶狀光束 / 鋁 / 8kW / 40cc 坩堝 / 爐膛正上方 250H） |
| 最大加速電壓 | -10kV |
| 最大發(fā)射電流 | 0.8 安培 | 1.0 安培 |
| 適用電源 | 電子產品HPS-1000N-100/HPS-1000N-200 |
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