| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子/電池,綜合 | 
				                    				                    				                
				             
				            
				            日本ULVAC愛(ài)發(fā)科小型高頻濺射設(shè)備
帶 RF 電源的小型高頻濺射設(shè)備。
由于具有金屬、半導(dǎo)體和絕緣體的沉積能力,因此非常適合基礎(chǔ)研究和開(kāi)發(fā)實(shí)驗(yàn)。
 
				        
				            日本ULVAC愛(ài)發(fā)科小型高頻濺射設(shè)備
日本ULVAC愛(ài)發(fā)科小型高頻濺射設(shè)備
特征
它是絕緣體、金屬和半導(dǎo)體材料的濺射系統(tǒng)。
渦輪分子泵用于主泵送。
直徑為 2 英寸,3 個(gè)陰極可進(jìn)行多次沉積。
磁控濺射可實(shí)現(xiàn)濺射速度 30nm/min (SiO2)。
它具有基板加熱系統(tǒng)(350°C)。
規(guī)范
| 型 | VTR-151M/SRF (SCOTT-C3) | 
| 真空性能 | 極限壓力 | 6,6×10-4帕 | 
| 疏散時(shí)間 | 6,6×10-3帕/5分鐘 | 
| 真空室 | 真空室 | 金屬腔室 (直徑 310.5mm × 160mm (H)) | 
| 陰極 | 直徑 2 英寸,3 路 | 
| 標(biāo)準(zhǔn)目標(biāo) | 直徑 2 英寸(直徑 50.8 毫米)× T1mm ×T1 毫米 | 
| 濺射有效面積 | 25 毫米 | 
| 濺射速度 | SiO2 SiO2,沉積時(shí)超過(guò) 30nm/min | 
| 膜厚分布 | SiO2 SiO2,直徑 25mm 時(shí) ±10% 以內(nèi) | 
| 基板加熱溫度 | 最高 350°C | 
| 最高 350 攝氏度 | 50mm ~ 90mm (可變:半固定) | 
| 排氣系統(tǒng) | 主泵 | 渦輪分子泵 250 L/sec | 
| 液氮捕集阱 | ー | 
| 副泵 | 油旋轉(zhuǎn)泵200L/min | 
| 油霧捕集器 | 油霧捕集器 OMT-200A | 
| 作系統(tǒng) | 主閥 | 蝶閥 | 
| 副閥 | 三通閥 | 
| 自動(dòng)泄漏閥 | 選擇 | 
| 控制 | 手動(dòng)控制 | 
| 控制系統(tǒng) | 射頻電源 | 最大 300W (0~300W 可變) | 
| 皮拉尼真空計(jì) | GP-1GRY 系列 | 
| 電離真空計(jì) | 編號(hào):ISG1/SH2-1 | 
| 設(shè)置 | 外部尺寸 | 1081 毫米(寬)×853 毫米(深)×1104 毫米(高) | 
| 重量 | 400 公斤 | 
效用
| 型 | VTR-151M/SRF (SCOTT-C3) | 
| 所需功率 | 200V 單相 50/60Hz 3.5kVA | 
| 接地端子 | A 級(jí)(接地電阻/10Ω以下) | 
| 需水量 | 2.0 L/min(水溫 : 25°C以下、水壓 : 200kPa(表壓)) | 
| 連接(電源) | 乙烯基電纜(帶 R3.5-5 環(huán)形舌片端子)4m | 
| 連接(接地) | 接地線(帶 R5.5-8 環(huán)形舌片端子) 4m | 
| 連接(水管) | Tetoron 編織軟管 (外徑 15mm × 內(nèi)徑 9mm) 4m (2 列) | 
尺寸圖
