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Polaris系列12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
Polaris系列8英寸 通用物理氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
eVictor Al PVD鋁物理氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
HORIC L200 系列臥式 LPCVD 氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
Scaler HK430熱原子層沉積系統(tǒng)PX 1950
EPEE系列等離子化學氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
eVictor系列8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
MARS iCE120多片碳化硅外延系統(tǒng)PX 1950
MARS iCE115碳化硅外延系統(tǒng)PX 1950
Satur系列多片式MOCVD系統(tǒng)PX 1950
Hesper I E430R12英寸單片減壓硅外延系統(tǒng)PX 1950
Hesper E230A12英寸單片常壓硅外延系統(tǒng)PX 1950
Hesper Ⅱ E630R plus12英寸減壓選擇性外延系統(tǒng)PX 1950
Esther/Eris 系列8英寸單片常壓/減壓硅外延系統(tǒng)PX 1950
SES系列8英寸多片硅外延系統(tǒng)PX 1950
customized高真空互聯(lián)物理氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
customized低壓化學氣相沉積系統(tǒng)LPCVDPX 1950
customized化學氣相沉積MOCVDPX 1950
customized等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 1950
工業(yè)半導體微納加工二維材料實驗室設備PX 1907
PE鉑金埃爾默ICPMSPX 1907
氣相沉積光刻機刻蝕機磁控濺射PX 1907
便攜式樣品傳送腔體沉積系統(tǒng)PX 1907
插拔式加熱器沉積系統(tǒng)PX 1907
脈沖激光沉積靶臺PX 1907
脈沖激光沉積系統(tǒng)激光光路PX 1907
單腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)PX 1907
雙腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)PX 1907
電漿原子層沉積設備PX 1907
原子層沉積設備2PX 1907
原子層沉積系統(tǒng)PX 1907
批量式電漿輔助氣相沉積設備PX 1907
FPD-PECVD 電漿輔助化學氣相沉積PX 1907
感應耦合電漿化學氣相沉積設備PX 1907
低真空化學氣相沉積設備PX 1907
電漿輔助式化學氣相沉積設備PX 1907
化學氣相沉積PX 1907
PECVD等離子沉積設備DEPOLAB 200PX 1907
帶預真空室的化學氣相沉積設備SI 500 PPDPX 1907
等離子沉積設備SI 500 DPX 1907
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AT650/850T 臺式熱原子層沉積設備
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