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Amod物理氣相沉積平臺PX 1950
ESC-101新型離子槍PX 1950
PlasmaPro 1000等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVDPX 1950
PlasmaPro 80 PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVDPX 1950
PlasmaPro 800 PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVDPX 1950
PlasmaPro 100 PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積PECVDPX 1950
NEXDEPAE物理氣相沉積平臺PX 1950
PlasmaPro 100 ICPCVD電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積ICPCVDPX 1950
COVAP科瓦普物理氣相沉積平臺PX 1950
MS450多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)PX 1950
MBE 6000Riber分子束外延系統(tǒng)PX 1950
Beneq C2R--空間原子層沉積ALDPX 1950
MBE 49分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)MBEPX 1950
MBE 412RIBER分子束外延4 英寸中試生產(chǎn)系統(tǒng)PX 1950
Compact 21MBE分子束外延系統(tǒng)PX 1950
Genesis ALD原子層沉積儀器ALDPX 1950
Seehund® A 系列氣相分解金屬沾污收集(VPD)設(shè)備PX 1950
Shale® A 系列8英寸等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 1950
捷尼賽思原子層沉積PX 1950
貝內(nèi)克 C2R超快速、高精度空間原子層沉積鍍膜PX 1950
TFS 500原子層沉積研究設(shè)備PX 1950
TFS 200原子層沉積研究設(shè)備PX 1950
Beneq 轉(zhuǎn)換原子層沉積PX 1950
Beneq ProdigyALDPX 1950
Beneq Transform® 300ALDPX 1950
G10-碳化硅碳化硅沉積系統(tǒng)PX 1950
CCS系統(tǒng)化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)PX 1950
AIX G5+ C化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)PX 1950
AIX G5 WW C化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)PX 1950
AIX 2800G4-TM化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)PX 1950
MOCVD金屬有機(jī)源氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
線列式PECVD高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
Cluster PECVD高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
PECVD高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
PECVD高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積PX 1950
EB700高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
ALD原子層沉積緊湊、經(jīng)濟(jì)型PX 1782
EB900高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
DZS500高真空電子束及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
SMART蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
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離子注入設(shè)備
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組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
等離子Parylene派瑞林鍍膜集成系統(tǒng)
旋轉(zhuǎn)鼓式parylene派瑞林真空鍍膜設(shè)備
進(jìn)口parylene派瑞林鍍膜設(shè)備
派瑞林parylene真空鍍膜設(shè)備
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Parylene派瑞林真空鍍膜機(jī)
Parylene派瑞林鍍膜機(jī)
Parylene派瑞林鍍膜設(shè)備
原子層沉積系統(tǒng)
真空等離子體涂覆薄膜沉積設(shè)備
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子增加化學(xué)氣相沉積CVD系統(tǒng)
上海衡平儀器儀表有限公司
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上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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