1200℃RTP退火爐 參考價：35600
1200℃RTP退火爐是一款12寸片快速退火爐，采用革新的加熱技術(shù)，可實現(xiàn)真正的基底溫度測量，不需要采用傳統(tǒng)快速退火爐的溫度補償，溫度控制**，溫度重復(fù)性高，客...
RTP快速退火爐管式 參考價：23000
RTP快速退火爐管式主要用于完成材料制備過程中的快速熱處理工藝工作。RTP快速退火爐用于金屬硅化物合金形成。RTP快速退火爐被廣泛地用于在器件中制備金屬硅化物
RTP快速退火爐管式 參考價：18500
RTP快速退火爐管式主要用于完成材料制備過程中的快速熱處理工藝工作。退火爐用于金屬硅化物合金形成。RTP快速退火爐被廣泛地用于在器件中制備金屬硅化物。
RTP快速退火爐管式 參考價：56000
RTP快速退火爐管式主要用于完成材料制備過程中的快速熱處理工藝工作?？焖偻嘶馉t用于金屬硅化物合金形成。RTP快速退火爐被廣泛地用于在器件中制備金屬硅化物。
管式RTP快速退火爐 參考價：面議
管式RTP快速退火爐主要用于完成材料制備過程中的快速熱處理工藝工作。退火爐用于金屬硅化物合金形成。RTP快速退火爐被廣泛地用于在器件中制備金屬硅化物。
RTP快速退火爐柜式 參考價：18600
RTP快速退火爐柜式是一種用于半導(dǎo)體制造和材料處理的設(shè)備，RTP退火爐核心特點是快速升降溫和jingque溫控，退火爐適用于短時高溫工藝.
RTP快速退火爐柜式 參考價：23000
RTP快速退火爐柜式是一種用于半導(dǎo)體制造和材料處理的設(shè)備，快速退火爐核心特點是快速升降溫和jingque溫控，退火爐適用于短時高溫工藝.
RTP快速退火爐柜式 參考價：23000
RTP快速退火爐柜式是一種用于半導(dǎo)體制造和材料處理的設(shè)備，快速退火爐其核心特點是快速升降溫和jingque溫控，退火爐適用于短時高溫工藝。
RTP快速退火爐柜式 參考價：23000
RTP快速退火爐柜式是一種用于半導(dǎo)體制造和材料處理的設(shè)備，快速退火爐核心特點是快速升降溫和jingque溫控，退火爐適用于短時高溫工藝。
RTP快速退火爐柜式 參考價：23000
RTP快速退火爐柜式是一種用于半導(dǎo)體制造和材料處理的設(shè)備，RTP快速退火爐核心特點是快速升降溫和jingque溫控，RTP退火爐適用于短時高溫工藝。
晶圓RTP退火爐柜式 參考價：23000
晶圓RTP退火爐柜式是一種用于半導(dǎo)體制造和材料處理的設(shè)備，RTP快速退火爐核心特點是快速升降溫和jingque溫控，RTP退火爐適用于短時高溫工藝。
磁控濺射鍍膜加熱臺 參考價：面議
加熱臺主要用于CY-VTC-600-2HD雙靶、CY-VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀及CY-GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀的樣品臺的加熱。
帶紅外線加熱的臺式浸漬提拉涂膜機 參考價：面議
帶紅外線加熱的臺式浸漬提拉涂膜機旨在盡可能減少操作員的參與，以便微控制器可以準(zhǔn)確地保持速度、持續(xù)時間等變量。通過精密伺服電機控制的線性平臺實現(xiàn)運動，提供振動和無...
凈化旋涂儀勻膠機帶加熱臺 參考價：89000
凈化旋涂儀勻膠機帶加熱臺廣泛用于半導(dǎo)體硅片的勻膠鍍膜等，例如對大型晶圓、芯片、晶片等進行工藝制版時，可用此設(shè)備進行各種膠體的表面涂覆或光刻工藝勻膠； 是集成電路...
雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀 參考價：250000
?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀配有一臺直流電源，一臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等往復(fù)式設(shè)...
桌面型水冷樣品臺蒸發(fā)鍍膜儀 參考價：68500
本產(chǎn)品為桌面型水冷樣品臺蒸發(fā)鍍膜儀，設(shè)備安裝有鎢絲籃蒸發(fā)源，可提供最大100A的鍍膜電流，最大蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍
臺式射頻電源單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：49800
臺式射頻電源單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實驗室SEM樣品制備。本型號配備射頻電源，尤其適合非...
臺式緊湊型三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：面議
臺式緊湊型三靶磁控濺射鍍膜儀是專為非金屬薄膜鍍膜設(shè)計的三頭2“射頻等離子磁控濺射系統(tǒng)，主要用于多層氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜研究中性價比*高的鍍膜機 . 直...
磁控濺射鍍膜儀帶振動樣品臺 參考價：250000
磁控濺射鍍膜儀帶振動樣品臺為我公司研發(fā)的配有三個靶位的實驗室專用于處理粉末及顆粒樣品的鍍膜儀，設(shè)備配有兩臺直流電源，一臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、...
往復(fù)樣品臺單靶磁控鍍膜儀 參考價：38000
往復(fù)樣品臺單靶磁控鍍膜儀是一款緊湊高效的實驗室級鍍膜設(shè)備，采用磁控濺射技術(shù)，可在真空環(huán)境下實現(xiàn)金屬、合金、氧化物等多種材料的均勻鍍膜。桌面型單靶磁控鍍膜儀小型化...
臺式靜電紡絲和電噴霧裝置 參考價：456000
臺式靜電紡絲和電噴霧裝置是一款高壓靜電紡絲機，專門用于制作納米線或是在基底上進行涂層。儀器中的注射泵可連續(xù)不斷地向噴頭輸送流體，且供液速度可調(diào)，滿足不同紡絲溶液...
傾斜樣品臺式單靶磁控鍍膜儀 參考價：50000
本設(shè)備為傾斜樣品臺式單靶磁控鍍膜儀，樣品臺與靶面的角度可調(diào)，可用于制作特定生長角度的薄膜。設(shè)備外形為桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個直流電源，可用...
透明亞克力腔體勻膠機 參考價：6500
本型號透明亞克力腔體勻膠機經(jīng)過小型化設(shè)計，整體采用鋁合金結(jié)構(gòu)，腔體上蓋選用透明亞克力，外觀美觀堅固。儀器采用的精密電機，最高轉(zhuǎn)速能達(dá)到10000轉(zhuǎn)/秒；控制依靠...
PP腔體勻膠機 參考價：6900
本型號PP腔體勻膠機經(jīng)過小型化設(shè)計，整體采用鋁合金結(jié)構(gòu)，PP工程塑料腔體，外觀美觀堅固。儀器采用的精密電機，ZUI高轉(zhuǎn)速能達(dá)到8000轉(zhuǎn)/秒；控制依靠按鍵和高亮...(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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